物理气相淀积最基本的两种方法是什么？简述这两种方法制备薄膜的

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物理气相淀积最基本的两种方法是什么？简述这两种方法制备薄膜的过程。

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物理气相淀积：蒸发Evaporation、溅射Sputtering热蒸发法：在真空条件下，加热蒸发源，使原子或分子从蒸发源表面逸出，形成蒸气流并入射到衬底表面，凝结形成固态薄膜。溅射概念与机理：基本原理，真空腔中有一个平行板等离子体反应器，非常类似于简单的反应离子刻蚀系统。

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