涡流检测时,影响试验线圈阻抗的主要因素可从如下特性函数中表现出来:1-η+μrμ相对磁导率;μeffeff式中:η--填充系数;μr----有效磁导率。即影响试验线圈阻抗的主要因素有:电导率、磁导率、试件的形状尺寸、缺陷及试验频率等。电导率:如果电导率σ变,则特征频率fg变[fg=1/(2πμσα),α是试件半径],贝塞尔函数的变量变,有效磁导率变,试验线圈阻抗变。电导率的变化,在阻抗图中影响阻抗值在曲线上的位置。磁导率:非磁性材料,因为μr近似为1,所以对阻抗无影响;磁性材料,因为μr远大于1,所以直接影响有效磁导率值、特征函数值和阻抗值。磁性材料试件的阻抗随相对磁导率μr值的增大而增大。试件几何尺寸:试件几何尺寸通常以直径(或半径)描述。试件直径的变化,不仅影响有效磁导率(分析参见电导率分析),而且影响填充系数。因此,试件几何尺寸对试验线圈阻抗的影响是双重的。缺陷:缺陷对试验线圈阻抗的影响可以看作是电导率、几何尺寸两个参数影响的综合结果。由于试件中裂纹位置、深度和形状的综合影响结果,使缺陷对试验线圈阻抗的影响无法进行理论计算,通常是借助于模型进行实验。试验频率:试验频率对试验线圈阻抗的影响表现在频率比f/fg上,由于有效磁导率是以频率比f/fg为参变量的,随着试验频率的不同,试验线圈在曲线上的位置发生改变。
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